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LLTRP-450型双室磁控溅射体系
编号:SN20151013152717477
种别:磁控溅射镀膜体系
  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑

    装备用处

        用于纳米级单层及多层功用膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜质料的制备。可普遍应用于大专院校、科研院所的薄膜质料的科研取小批量制备。


    装备构成

        体系重要由溅射真空室、进样室、永磁磁控溅射靶(三个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、事情气路、抽气体系、真空丈量、电控体系及安装机台等局部构成。

     

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