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磁控取离子束复合体系
编号:SN20150801152712388
种别:离子束溅射镀膜装备
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  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑
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    装备用处

        用于纳米级单层及多层功用膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的制备。可普遍应用于半导体、微电子及新材料范畴。

     

    装备构成

        体系重要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、事情气路、抽气体系、真空丈量、电控体系及安装机台等局部构成。

     

    技术指标

     

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