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单室离子束镀膜装备
编号:SN20151013153534805
种别:离子束溅射镀膜装备
  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑

    装备用处

        体系为下真空多功能离子束堆积体系, 可用于开发纳米级的单层及多层功用膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜等。普遍应用于大专院校、科研院所停止薄膜质料的科研取小批量制备。

     

    装备构成

        体系重要由堆积室、考夫曼溅射离子源、考夫曼洗濯辅佐离子源、样品台、样品加热装配、膜薄监测体系、泵抽体系、真空丈量体系、气路体系、电控体系等构成。

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