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JGP-560型单室磁控溅射体系
编号:SN20151013152152101
种别:磁控溅射镀膜体系
  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑

    装备用处

        用于纳米级单层及多层功用膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜质料的制备。可普遍应用于大专院校、科研院所的薄膜质料的科研取小批量制备。

     

    装备构成

        体系重要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、事情气路、抽气体系、安装机台、真空丈量及电控体系等局部构成。

     

     

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