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线列式PECVD等离子体化学气相堆积镀膜装备
编号:SN20151013154830471
种别:PECVD系列等离子体化学气相堆积镀膜装备
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  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑

    装备用处

        本装备接纳等离子体加强化学气相堆积手艺,正在光学玻璃、硅、石英和不锈钢等差别衬底质料上堆积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件。可普遍应用于大专院校、科研院所的薄膜质料的科研取小批量制备。

     

    装备构成

        多室CVD构造由2个收支片室、3个自力PECVD回响反映真空室按直线构造衔接,工件经由过程传输机构运送到各个真空室中停止工艺处置惩罚,各真空室间用插板阀衔接。该体系重要由真空室、真空得到体系、射频和甚高频电源、衬底加热控温体系、气路体系、尾气处置惩罚体系、传动系统等局部构成。

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