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LLJGP-560型双室磁控溅射体系
编号:SN20151013152549170
种别:磁控溅射镀膜体系
  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑
    装备用处
        用于纳米级单层及多层功用膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜质料的制备。可普遍应用于大专院校、科研院所的薄膜质料科研取小批量制备。

    装备构成
        重要由主溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、进样室、样品库、退火炉、反溅靶、磁力收样机构、事情气路、抽气体系、安装机台、真空丈量及电控体系等局部构成。

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