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Cluster PECVD等离子体化学气相堆积镀膜装备
编号:SN20151013154824891
种别:PECVD系列等离子体化学气相堆积镀膜装备
  • 产物概述
  • 规格参数
  • 效劳支撑

    装备用处

        本装备接纳等离子体加强化学气相堆积手艺,正在光学玻璃、硅、石英和不锈钢等差别衬底质料上堆积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件。可普遍应用于大专院校、科研院所的薄膜质料的科研取小批量制备。

     

    装备构成

        该体系重要由1个中心传输室、3个PECVD堆积室和一个进/出片室组成,并预留2个腔室接口后续运用。

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